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產(chǎn)品中心

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  • PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積

    PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積是一款1200℃等離子增強(qiáng)混合物理化學(xué)氣相沉積(HPCVD)雙溫區(qū)回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)源(帶自動(dòng)匹配功能)、上游原位蒸發(fā)舟、4通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)及性能優(yōu)異的真空泵組成。此于無機(jī)復(fù)合粉末的熱處理及粉末表面的均勻包覆(如:制備鋰離子電池陰極粉末的導(dǎo)電涂層等)。

    更新日期:2024-08-29
    型號:
    廠商性質(zhì):代理商
  • CVD氣相沉積

    CVD(ChemicalVaporDeposition,化學(xué)氣相沉積)是一種用于薄膜沉積的技術(shù)。它通過將氣態(tài)化學(xué)前驅(qū)體反應(yīng)成固態(tài)沉積物,在基材表面形成薄膜。CVD廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光伏設(shè)備、涂層和材料科學(xué)等領(lǐng)域。

    更新日期:2024-08-29
    型號:
    廠商性質(zhì):代理商
  • ALD-1200X-4雙通道ALD管式爐系統(tǒng)

    雙通道ALD管式爐系統(tǒng)ALD-1200X-4是一款4英寸管式爐系統(tǒng),包含用于原子層沉積的2個(gè)ALD進(jìn)氣閥、1個(gè)精密液體氣相發(fā)CVD生長納米材料和薄膜材料的4通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)。該管式爐系統(tǒng)簡潔的設(shè)計(jì)使得更多的科擔(dān)的低成本情況下實(shí)現(xiàn)ALD工藝實(shí)驗(yàn)。

    更新日期:2024-08-19
    型號:ALD-1200X-4
    廠商性質(zhì):代理商
  • GSL-1100X-III-D11大面積雙管石墨烯生長爐

    GSL-1100X-III-D11是一款大面積雙管石墨烯生長爐,其最高溫度可以達(dá)到1100℃。特殊的雙管設(shè)計(jì),法在箔材上大面積生長材料(面積:~7000 cm^2,箔材纏繞在內(nèi)管的外壁上)。一個(gè)送管裝置可以外管內(nèi)部或從外管中取出。此款設(shè)備特別適合大面積生長石墨烯和柔性電極材料。

    更新日期:2024-08-19
    型號:GSL-1100X-III-D11
    廠商性質(zhì):代理商
  • OTF-1200X-II-PEC41200℃等離子增強(qiáng)HPCVD回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)

    1200℃等離子增強(qiáng)HPCVD回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng),OTF-1200X-II-PEC4是一款1200℃等離子增強(qiáng)混合物理化學(xué)氣相沉積(HPCVD)雙溫區(qū)回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)源(帶自動(dòng)匹配功能)、上游原位蒸發(fā)舟、4通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)及性能優(yōu)異的真空泵組成。此于無機(jī)復(fù)合粉末的熱處理及粉末表面的均勻包覆(如:制備鋰離子電池陰極粉末的導(dǎo)電涂層等)。

    更新日期:2024-08-19
    型號:OTF-1200X-II-PEC4
    廠商性質(zhì):代理商
  • GSL-1700X-HVC1700°C二通道混氣高真空CVD系統(tǒng)

    GSL-1700X-HVC是一款CE認(rèn)證的二通道高真空CVD系統(tǒng),它是由二路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機(jī)組組度可達(dá)1600℃,極限真空度可達(dá) to 10^-5 torr。混氣系統(tǒng)可以對兩種氣體進(jìn)行精確的混氣,然后導(dǎo)

    更新日期:2024-08-19
    型號:GSL-1700X-HVC
    廠商性質(zhì):代理商
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