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1英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀--VTC-1RF
簡(jiǎn)要描述:

VTC-1RF是一款小型臺(tái)式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。對(duì)于新型非導(dǎo)電薄膜的探索,它是一款廉價(jià)并且高效的實(shí)驗(yàn)幫手。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2024-08-17
  • 訪  問(wèn)  量:3271

詳細(xì)介紹

VTC-1RF是一款小型臺(tái)式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。對(duì)于新型非導(dǎo)電薄膜的探索,它是一款廉價(jià)并且高效的實(shí)驗(yàn)幫手。

我們用此設(shè)備得到擇優(yōu)取向的ZnO薄膜

技術(shù)參數(shù)

輸入電源

  • 220VAC 50/60Hz, 單相
  • 800W  (包括真空泵)

等離子源

  • 一個(gè)100W,13.5MHz的射頻電源安裝在移動(dòng)柜內(nèi)
  • 配有一13.5MHz,100W的射頻電源(采用手動(dòng)匹配)
  • 可選配300W射頻電源(自動(dòng)匹配)
  • 注意:100W手動(dòng)調(diào)節(jié)的RF(射頻)電源價(jià)格較低,但是每一次對(duì)于不同的靶材,都需要手動(dòng)設(shè)置參數(shù)才能產(chǎn)生等離子體,比較耗費(fèi)時(shí)間。300W自動(dòng)匹配的RF(射頻)電源,價(jià)格較昂貴,但比較節(jié)約時(shí)間。

磁控濺射頭

  • 一個(gè)1英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層),采用快速接頭與真空腔體相連接
  • 靶材尺寸: 直徑為25.4mm,大厚度3mm
  • 一個(gè)快速擋板安裝在法蘭上(手動(dòng)操作,見(jiàn)圖左3)
  • 濺射頭所需冷卻水:流速10ml/min(儀器中配有一臺(tái)流速為16ml/min的循環(huán)水冷機(jī))
  • 同時(shí)可選配2英寸濺射頭
  • 選配2英寸濺射頭靶材尺寸:直徑為50.8mm,大厚度6mm  
       

真空腔體

  • 真空腔體:160 mm OD x 150 mm ID x  250mm H,采用高純石英制作
  • 密封法蘭:直徑為165 mm .  采用金屬鋁制作,采用硅膠密封圈密封
  • 一個(gè)不銹鋼網(wǎng)罩住整個(gè)石英腔體,以屏蔽等離子體
  • 真空度:<1.0*10-2 Torr (采用雙極旋片真空泵)
  •          <5*10-5 torr (采渦旋分子泵)

載樣臺(tái)

  • 載樣臺(tái)可旋轉(zhuǎn)(為了制膜更加均勻)并可加熱
  • 載樣臺(tái)尺寸:直徑50mm (大可放置2英寸的基片)
  • 旋轉(zhuǎn)速度:1 - 20 rpm
  • 樣品臺(tái)的高加熱溫度為700℃(短期使用,恒溫不超過(guò)1小時(shí)),長(zhǎng)期使用溫度500℃
  • 控溫精度+/- 10℃
  •  

真空泵

可選用直聯(lián)式雙極旋片泵,也可選用德國(guó)制作的分子泵系統(tǒng)

  

薄膜測(cè)厚儀

  • 一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在儀器上,可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?
  • LED顯示屏顯示,同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
  •  

質(zhì)保和質(zhì)量認(rèn)證

  • 一年質(zhì)保期,終生維護(hù)
  • CE認(rèn)證

使用注意事項(xiàng)

  • 這款1英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用于在單晶基片上制備氧化物膜,所以并不需要太高的真空度
  • 為了較好地排出真空腔體中的氧氣,建議用5%H2+95 %N2對(duì)真空腔體清洗2-3次,可有效減少真空腔體中的氧含量
  • 請(qǐng)用純度大于5N的Ar來(lái)進(jìn)行等離子濺射,甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水,所以建議將鋼瓶中的惰性氣體通過(guò)凈化系統(tǒng)過(guò)后,再導(dǎo)入到真空腔體內(nèi)
  •  

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