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VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀--VTC-600-2HD
簡(jiǎn)要描述：

VTC-600-2HD是一款帶有兩個(gè)靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個(gè)靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個(gè)采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜.設(shè)備上安裝有薄膜測(cè)厚儀可以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度。此設(shè)備可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導(dǎo)電，合金，半導(dǎo)體，陶瓷，介電，光學(xué)，氧化物和PTFE薄膜等。而且設(shè)備體積較小操作方便，是一套理想的實(shí)驗(yàn)工具。

  • 產(chǎn)品型號(hào)：
  • 廠商性質(zhì)：代理商
  • 更新時(shí)間：2024-08-17
  • 訪  問  量：3471

詳細(xì)介紹

技術(shù)參數(shù)

結(jié)構(gòu)

輸入電源

  • 220VAC 50/60Hz, 單相
  • 2000W  (包括泵)

濺射電源

  • 安裝有兩個(gè)濺射電源
  • 直流（DC）電源：500W，針對(duì)于制作金屬膜
  • 射頻（RF）電源：600W，可制作氧化物和金屬膜
  • 同時(shí)可選配300W的射頻電源

磁控濺射頭

  • 儀器中安裝有2個(gè)磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層，可通入冷卻水對(duì)靶材降溫
  • 其中一個(gè)濺射頭與射頻電源相連接，主要是濺射絕緣性靶材
  • 另一個(gè)濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導(dǎo)電性靶材
  • 靶材尺寸要求：金屬靶：直徑為50mm,大厚度1.5mm
  •              陶瓷靶：直徑為50mm,大厚度6mm
  • 儀器中標(biāo)配一個(gè)不銹鋼靶和氧化鋁陶瓷靶
  • 濺射頭所需冷卻水：流速10ml/min（儀器中配有一臺(tái)流速為16ml/min的循環(huán)水冷機(jī)）

也可以根據(jù)自己的要求選擇2個(gè)射頻濺射頭或3個(gè)射頻濺射頭，訂購前需于本公司銷售人員

真空腔體

  • 真空腔體：300 mm Dia x 300 mm h，采用不銹鋼制作
  • 觀察窗口：  100 mm diameter
  • 腔體打開方式采用上頂開，使得換靶更加容易

載樣臺(tái)

  • 載樣臺(tái)尺寸：140mm dia.（大可放置4"的基底）
  • 載樣臺(tái)可以旋轉(zhuǎn)，其速度為：1 - 20 rpm （可調(diào)）
  • 載樣臺(tái)高可加熱溫度為500℃，控溫精度為+/- 1.0 °C

氣體流量控制器

  • 儀器內(nèi)部安裝有2個(gè)質(zhì)量流量計(jì)
  • 量程為：0-200sccm
  • 氣體流量設(shè)置可以在6英寸的觸摸屏上進(jìn)行操作

真空泵系統(tǒng)

配有一套分子泵系統(tǒng)（德國(guó)制作），采用一鍵式操作

薄膜測(cè)厚儀

  • 一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在儀器上，可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度，分辨率為0.10 Å  
  • LED顯示屏顯示，同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)

外形尺寸

L1300mm× W660mm× H1200mm

重量

160 kg

質(zhì)保期

一年質(zhì)保期，終生維護(hù)

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