VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-1HD雙靶磁控濺射儀配備有一個靶槍，可選擇強(qiáng)磁靶或弱磁靶，弱磁靶用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，且可使

產(chǎn)品型號：VTC-600-1HD
廠商性質(zhì)：代理商
更新時間：2024-08-19
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詳細(xì)介紹

品牌	其他品牌	應(yīng)用領(lǐng)域	環(huán)保,化工,石油,能源,電子

    單靶磁控濺射儀主要特點(diǎn)：

    1、可選一個靶槍，配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜或配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。

    2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。

    3、體積小，操作簡便。

    技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品名稱	VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀
產(chǎn)品型號	VTC-600-1HD
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
	1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)（加注純凈水或者去離子水）
	2、電：AC220V 50Hz,必須有良好接地
	3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上）,需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭）及減壓閥
	4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上
	5、通風(fēng)裝置：需要
主要參數(shù)	1、電源電壓：220V 50Hz
	2、功率：<1KW（不含真空泵）
	3、極限真空度：9.0×10-4Pa
	4、樣品臺加熱溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度）
	5、靶槍數(shù)量：1個（可選配其他數(shù)量）
	6、靶槍冷卻方式：水冷
	7、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同）
	8、直流濺射功率：500W;射頻濺射功率：300W.（靶電源種類可選,可選擇直流或射頻電源）
	9、載樣臺：Ø140mm,可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能,以實(shí)現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。
	10、載樣臺轉(zhuǎn)速：1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)
	11、工作氣體：Ar等惰性氣體
	12、進(jìn)氣氣路：質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣,一路為100SCCM,另一路為200SCCM。
產(chǎn)品規(guī)格	1、主機(jī)尺寸：500mm×560mm×660mm
	2、整機(jī)尺寸：1300mm×660mm×1200mm
	3、重量：160kg
	4、真空室規(guī)格：φ300×300mm
標(biāo)準(zhǔn)配件	1、直流電源控制系統(tǒng)1套（可選）
	2、射頻電源控制系統(tǒng)1套（可選）
	3、冷水機(jī)1臺
	4、冷卻水管（Ø6mm）4根
可選配件	1、金、銦、銀、白金等各種靶材
	2、膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)
	3、分子泵（德國進(jìn)口）

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