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當(dāng)前位置:首頁  >  產(chǎn)品中心  >  制膜設(shè)備  >  磁控濺射鍍膜  >  VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀

單靶磁控濺射儀
簡要描述:

VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-1HD雙靶磁控濺射儀配備有一個靶槍,可選擇強(qiáng)磁靶或弱磁靶,弱磁靶用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),且可使

  • 產(chǎn)品型號:VTC-600-1HD
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2024-08-19
  • 訪  問  量:2238

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌應(yīng)用領(lǐng)域環(huán)保,化工,石油,能源,電子
    單靶磁控濺射儀主要特點(diǎn):

    1、可選一個靶槍,配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜或配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。

    2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。

    3、體積小,操作簡便。

    技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品名稱 VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀
產(chǎn)品型號 VTC-600-1HD
安裝條件 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)
2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套接頭)及減壓閥
4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通風(fēng)裝置:需要
主要參數(shù) 1、電源電壓:220V  50Hz
2、功率:<1KW(不含真空泵)
3、極限真空度:9.0×10-4Pa
4、樣品臺加熱溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度)
5、靶槍數(shù)量:1個(可選配其他數(shù)量)
6、靶槍冷卻方式:水冷
7、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)
8、直流濺射功率:500W;射頻濺射功率:300W.(靶電源種類可選,可選擇直流或射頻電源)
9、載樣臺:Ø140mm,可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能,以實(shí)現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。
10、載樣臺轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)
11、工作氣體:Ar等惰性氣體
12、進(jìn)氣氣路:質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣,一路為100SCCM,另一路為200SCCM。
產(chǎn)品規(guī)格 1、主機(jī)尺寸:500mm×560mm×660mm
2、整機(jī)尺寸:1300mm×660mm×1200mm
3、重量:160kg
4、真空室規(guī)格:φ300×300mm
標(biāo)準(zhǔn)配件 1、直流電源控制系統(tǒng)1套(可選)
2、射頻電源控制系統(tǒng)1套(可選)
3、冷水機(jī)1臺
4、冷卻水管(Ø6mm)4根
可選配件 1、金、銦、銀、白金等各種靶材
2、膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)
3、分子泵(德國進(jìn)口)

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