GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀在真空環(huán)境中利用粒子轟擊靶材產(chǎn)生的濺射效應(yīng)，使得靶材原子或分子從固體表面射出，在基片上沉積形成薄膜的過程。屬于物理氣相沉積（PVD）制備薄膜技術(shù)的一種。設(shè)計而成的簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設(shè)備，適用于實驗室各種復(fù)合膜樣品的制備，以及非導(dǎo)體材料實驗電極的制作。GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀可用于實驗室制備掃描電鏡樣品使用，且設(shè)備體積小巧，

產(chǎn)品型號：GSL-1100X-SPC-16M
廠商性質(zhì)：代理商
更新時間：2024-08-19
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詳細介紹

品牌	其他品牌	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,能源,電子

主要特點：

1、設(shè)有真空表、濺射電流表，可實時監(jiān)控工作狀態(tài)。
2、通過調(diào)節(jié)濺射電流控制器、微型真空氣閥，控制真空室壓強、電離電流及選擇所需要的電離氣體，以獲得最佳鍍膜效果。
3、鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設(shè)計，可保證長期使用不出現(xiàn)玻璃鐘罩崩邊現(xiàn)象。
4、陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經(jīng)久耐用。
5、根據(jù)電場中氣體電離特性，采用大容量濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。
6、濺射頭采用Peltier制冷技術(shù)，可得到高性能、精細顆粒的涂層。
7、可用水冷濺射頭、水冷載物臺。

技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品名稱	GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀
產(chǎn)品型號	GSL-1100X-SPC-16M
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備需選配自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（帶減壓閥） 4、工作臺：尺寸600mm×600mm×700mm，承重50kg以上 5、通風裝置：不需要
主要參數(shù)	1、靶：?50mm 2、真空室：?160mm×120mm 3、真空度：≤4×10-2mbar 4、max電流：50mA（可選100mA） 5、可設(shè)定極*：9999s 6、微型真空氣閥：連接?3mm軟管 7、極限電壓：1600V DC 8、機械泵：2L/s
產(chǎn)品規(guī)格	尺寸：360mm×300mm×380mm。整體重量：50Kg 主機凈重：15Kg
標準配件	1、金靶材1個 2、進氣針閥1個 3、保險絲2個
可選配件	金、銦、銀、鉑等各種靶材

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