磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設(shè)備，適用于在 PET 和無紡布上鍍制金屬膜（銅，鋁等）功能性薄膜，設(shè)備采用先進(jìn)的磁控濺射鍍膜技術(shù)，配備直流、射頻磁控濺射系統(tǒng)，適合鍍制軟磁合金膜、金屬膜、導(dǎo)電膜、合金膜、介質(zhì)膜等。

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廠商性質(zhì)：代理商
更新時(shí)間：2024-08-19
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產(chǎn)品介紹：

磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設(shè)備，適用于在 PET 和無紡布上鍍制金屬膜（銅，鋁等）功能性薄膜，設(shè)備采用先進(jìn)的磁控濺射鍍膜技術(shù)，配備直流、射頻磁控濺射系統(tǒng)，適合鍍制軟磁合金膜、金屬膜、導(dǎo)電膜、合金膜、介質(zhì)膜等。

技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品名稱	磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)
主要參數(shù)	卷膜條件鍍膜材料：PET 和無紡布適用制膜：軟磁合金膜、金屬膜、導(dǎo)電膜、合金膜、介質(zhì)膜等。基材厚度：125～300μm 有效鍍膜寬幅：≤800 mm 最大卷繞直徑：Φ400 mm 卷繞芯軸內(nèi)徑：4 寸基材卷繞速度：1～2 m/min 基材卷繞張力：30 ～ 200 N 張力系統(tǒng)：交流伺服濺鍍方式：單面真空條件極限真空（空載、潔凈）：8×10-4Pa 恢復(fù)真空時(shí)間（空載、清潔）：105Pa ～ 5×10-3Pa≤60 min 系統(tǒng)真空漏率：1.0×10-10 Pa.m3/s 磁控濺射陰極數(shù)量：3 個(gè) 膜均勻性偏差：≤±10%

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