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詳細(xì)介紹
品牌 | 其他品牌 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,文體,電子 |
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主要特點(diǎn):
1、真空度高。
2、可制備多種薄膜,金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等,應(yīng)用廣泛。
3、體積小,操作簡便。
4、清理安裝便捷。
5、控制可選一體化觸摸屏控制
技術(shù)參數(shù):
產(chǎn)品名稱 | GSL-CKJS-450-B1磁控濺射 | |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水) 2、電:AC380V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氮/氬氣(純度99.99%以上),需自備實(shí)驗(yàn)氣體氣瓶(自帶?10mm雙卡套接頭)及減壓閥 4、場地:設(shè)備尺寸3500×1600mm,承重1000kg以上 5、通風(fēng)裝置:需要 | |
主要參數(shù) | 1、主濺射室尺寸:?560×355mm梨形真空室 2、主濺射室真空度:5×10-6Pa 3、進(jìn)樣室尺寸: ?255×430mm 4、進(jìn)樣室真空度:5×10-4Pa 5、永磁靶5套,靶材尺寸φ2″,各靶射頻與直流濺射兼容(其中1個(gè)靶可濺射鐵磁材料) 6、公轉(zhuǎn)樣品臺(tái)6個(gè)工位,5個(gè)水冷工位,1個(gè)加熱工位,加熱工位最高溫度 600℃±1℃ 7、樣品尺寸:φ1″,可放置6片 8、基片可加-200V負(fù)偏壓 9、進(jìn)樣室可一次性安裝6片樣品,可對(duì)被鍍樣品進(jìn)行退火處理,退火溫度 800℃±1℃ 10、進(jìn)樣室可對(duì)基片進(jìn)行反濺清洗 11、進(jìn)樣室和主濺射室之間通過磁力樣品機(jī)構(gòu)進(jìn)行樣品傳遞 | |
產(chǎn)品規(guī)格 | 整機(jī)尺寸:2700×900mm×2000mm。 | |
標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1、電源控制系統(tǒng)1套 2、真空獲得系統(tǒng)1套 3、真空測量裝置1套 |
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