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當(dāng)前位置：首頁  >  產(chǎn)品中心  >  制膜設(shè)備  >  磁控濺射鍍膜  >  GSL-CKJS-560-B2磁控濺射

磁控濺射
簡要描述：

高真空濺射可用于金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。

  • 產(chǎn)品型號(hào)：GSL-CKJS-560-B2
  • 廠商性質(zhì)：代理商
  • 更新時(shí)間：2024-08-19
  • 訪  問  量：2170

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,文體,電子

主要特點(diǎn)：

1、真空度高。
2、可制備多種薄膜，金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等，應(yīng)用廣泛。
3、體積小，操作簡便。
4、清理安裝便捷。
5、控制可選一體化觸摸屏控制

技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品名稱GSL-CKJS-450-B1磁控濺射
安裝條件本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)（加注純凈水或者去離子水）
2、電：AC380V 50Hz，必須有良好接地
3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氮/氬氣（純度99.99%以上），需自備實(shí)驗(yàn)氣體氣瓶（自帶?10mm雙卡套接頭）及減壓閥
4、場地：設(shè)備尺寸3500×1600mm，承重1000kg以上
5、通風(fēng)裝置：需要
主要參數(shù)
1、主濺射室尺寸：?560×355mm梨形真空室
2、主濺射室真空度：5×10-6Pa
3、進(jìn)樣室尺寸: ?255×430mm
4、進(jìn)樣室真空度：5×10-4Pa
5、永磁靶5套，靶材尺寸φ2″，各靶射頻與直流濺射兼容（其中1個(gè)靶可濺射鐵磁材料）
6、公轉(zhuǎn)樣品臺(tái)6個(gè)工位，5個(gè)水冷工位，1個(gè)加熱工位，加熱工位最高溫度 600℃±1℃
7、樣品尺寸：φ1″，可放置6片
8、基片可加-200V負(fù)偏壓
9、進(jìn)樣室可一次性安裝6片樣品，可對(duì)被鍍樣品進(jìn)行退火處理，退火溫度 800℃±1℃
10、進(jìn)樣室可對(duì)基片進(jìn)行反濺清洗
11、進(jìn)樣室和主濺射室之間通過磁力樣品機(jī)構(gòu)進(jìn)行樣品傳遞
產(chǎn)品規(guī)格

整機(jī)尺寸：2700×900mm×2000mm。

標(biāo)準(zhǔn)配件1、電源控制系統(tǒng)1套
2、真空獲得系統(tǒng)1套
3、真空測量裝置1套


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