磁控濺射儀可用于金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。

產(chǎn)品型號(hào)：GSL-CKJS-450-B1
廠商性質(zhì)：代理商
更新時(shí)間：2024-08-19
訪問量：3575

產(chǎn)品咨詢聯(lián)系我們

產(chǎn)品分類CLASSIFICATION

相關(guān)文章ARTICLES

查看全部

詳細(xì)介紹

品牌	其他品牌	價(jià)格區(qū)間	面議
產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	化工,電子

    磁控濺射儀主要特點(diǎn)：

    1、真空度高。

    2、可制備多種薄膜，金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等，應(yīng)用廣泛。

    3、體積小，操作簡便。

    4、清理安裝便捷。

    5、控制可選一體化觸摸屏控制

    技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品名稱	GSL-CKJS-450-B1磁控濺射儀
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用.
	1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)（加注純凈水或者去離子水）
	2、電:AC380V 50Hz,必須有良好接地
	3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氮/氬氣(純度99.99%以上),需自備實(shí)驗(yàn)氣體氣瓶(自帶Ø10mm雙卡套接頭)及減壓閥
	4、場(chǎng)地:設(shè)備尺寸3500×1600mm,承重1000kg以上
	5、通風(fēng)裝置：需要
主要參數(shù)	1、主濺射室尺寸：Ø450×355mm筒形真空室
	2、主濺射室真空度：5×10-5Pa
	3、永磁靶3套,靶材尺寸φ2″,各靶射頻與直流濺射兼容(其中1個(gè)靶可濺射鐵磁材料),靶與樣品距離90-110mm可調(diào)
	4、三靶共濺,三個(gè)靶可共同折向樣品中心,距離40-80mm可調(diào)
	5、基片加熱與水冷獨(dú)立工作,加熱爐可與水冷樣品臺(tái)可互換,加熱工位最高溫度600℃±1℃
	6、樣品尺寸：φ1″
	7、樣品臺(tái)可連續(xù)回轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速5-15轉(zhuǎn)/分
	8、基片可加-200V負(fù)偏壓
	9、公轉(zhuǎn)6工位樣品臺(tái),可一次性安裝6片φ1″基片
	拆下水冷加熱樣品臺(tái)可換上6工位樣品臺(tái),其中5個(gè)工位為自然冷卻工位,1個(gè)加熱工位,加熱工位溫度600℃±1℃
產(chǎn)品規(guī)格	整機(jī)尺寸:1500×900mm×2000mm；
標(biāo)準(zhǔn)配件	1、電源控制系統(tǒng)1套
	2、真空獲得系統(tǒng)1套
	3、真空測(cè)量裝置1套

產(chǎn)品咨詢

留言框

產(chǎn)品：
您的單位：
您的姓名：
聯(lián)系電話：
常用郵箱：
省份：
詳細(xì)地址：
補(bǔ)充說明：
驗(yàn)證碼：

請(qǐng)輸入計(jì)算結(jié)果（填寫阿拉伯?dāng)?shù)字），如：三加四=7

上一篇：GSL-CKJS-560-B2磁控濺射
下一篇：SKL-1700X-S1700℃高溫箱式爐(1.8L）

777久久精品一区二区三区无码_精品国产麻豆免费人成网站_无翼乌漫画全彩集少女大全_日本一卡二卡新区乱码绿野仙踪_japanese日本护士booloo

磁控濺射儀可用于金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。

留言框

產(chǎn)品：

您的單位：

您的姓名：

聯(lián)系電話：

常用郵箱：

省份：

詳細(xì)地址：

補(bǔ)充說明：

驗(yàn)證碼：