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本公司提供高真空腔體，客戶可自行為一些實(shí)驗(yàn)搭建真空系統(tǒng)，如等離子濺射，CVD或ALD等實(shí)驗(yàn)，同時(shí)也可作為高真空儲(chǔ)存箱。
超聲波霧化是利用超聲波能量將液體或是膠狀法分散成微米級(jí)的顆粒，其特點(diǎn)為霧粒噴出的初速度較小，且分散的霧粒尺寸較均勻。MSK-SP-01A就是一超聲霧化模塊，含有130W，40KHz的超聲波源，客戶可自行搭建超聲霧化制膜設(shè)備。
噴霧熱解制膜法，是將溶液霧化后噴涂到加熱的基底上，然后在基底上得到想得到的物質(zhì)結(jié)構(gòu)。此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應(yīng)用中已有相當(dāng)長的歷史。現(xiàn)在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽能電池中得廣泛用。 MSK-SP-04-LD是一款超聲噴霧熱解設(shè)備，它可以精確控制溶液化學(xué)計(jì)量比、霧粒的噴出速度和霧粒大小等參數(shù)。采用步進(jìn)電機(jī)和微處理器來控制容積泵來精確輸送溶劑。一個(gè)超聲波霧化器
EQ-TM106膜厚監(jiān)測儀是采用石英晶體振蕩原理，結(jié)合先進(jìn)的頻率測量技術(shù)，進(jìn)行膜厚的在線監(jiān)測。主要應(yīng)用于MBE、OLED熱蒸發(fā)、磁控濺射等設(shè)備的薄膜制備過程中，對(duì)膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測。根據(jù)實(shí)時(shí)速率可以輸出PWM模擬量，作為膜厚傳感器使用，與調(diào)節(jié)儀和蒸發(fā)電源配合實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)源的閉環(huán)速率控制。
VTC-600-2HD是一款帶有兩個(gè)靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個(gè)靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個(gè)采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜.設(shè)備上安裝有薄膜測厚儀可以實(shí)時(shí)監(jiān)測薄膜的厚度。此設(shè)備可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導(dǎo)電，合金，半導(dǎo)體，陶瓷，介電，光學(xué)，氧化物和PTFE薄膜等。而且設(shè)備體積較小操作方便，是一套理想的實(shí)驗(yàn)工具。
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